2020级硕士研究生陈正男同学文章“Effect of point defect-induced surface active sites of MoSi2N4 on performance of photocatalytic CO2 reduction ”被 Applied Catalysis A: General 杂志(SCI二区,IF = 5.706)接收。匙玉华老师为通讯作者。
光催化 CO2 还原的选择性通常受到催化剂表面活性位点的限制。 为了克服这一局限性,将点缺陷应用于MoSi2N4的结构设计。 筛选出三种不同的点缺陷结构(NMo _Si、NSi _Si和NAbs _N)并研究了其光催化性能。 光催化产物的选择性与活性位点类型密切相关,具有N活性位点的NAbs _N选择性地将CO2还原为CO,而具有Si活性位点的NMo _Si和NSi _Si选择性地将CO2还原为HCOOH。 此外,活性位点的配位环境对催化性能有重要影响。 具有相同Si活性位点的NMo _Si和NSi _Si由于Si的配位原子不同而具有不同的光催化性能。 该研究为通过控制点缺陷来提高产物选择性的催化剂设计提供了理论指导。